GB∕T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
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- 标准类型：电子信息
- 标准语言：中文版
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- 更新时间：2022-02-18
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资料介绍
GB∕T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。
本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析，测定范围为硼含量不小于5×1013 cm-3、铝含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3，元素浓度（原子个数百分比）不大于1%。
标准号：GB/T 41153-2021
标准名称：碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
引用标准：GB/T 14264 GB/T 22461 GB/T 32267
起草人：马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩
起草单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司
本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。
本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析，测定范围为硼含量不小于5×1013 cm-3、铝含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3，元素浓度（原子个数百分比）不大于1%。
标准号：GB/T 41153-2021
标准名称：碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
引用标准：GB/T 14264 GB/T 22461 GB/T 32267
起草人：马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩
起草单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司