GB∕T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
- 文件大小：5.35 MB
- 标准类型：检验检测
- 标准语言：中文版
- 文件类型：PDF文档
- 更新时间：2022-01-02
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资料介绍
GB∕T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法，以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。
本文件适用于硼原子浓度范围1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3的单晶硅、多晶硅或非晶硅样品，溅射弧坑深度在50 nm及以上。
本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法，以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。
本文件适用于硼原子浓度范围1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3的单晶硅、多晶硅或非晶硅样品，溅射弧坑深度在50 nm及以上。