T/CSEA 26-2023 电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件

本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆（ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3）原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证，标志、包装、运输和贮存等。
本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。